반도체 8대 공정 2

[반도체 공정] Etch 공정이란? (2)

안녕하세요.오늘은 지난 식각 기본 개념 포스팅에 이어 Etch 공정 종류에 대해 알아보고자 합니다.  1. Etch review지난 시간에 말씀드린 것처럼, Etch 공정은 불필요한 패턴을 제거하는 공정입니다.기억이 나지 않으시는 분은 아래 링크 참조해 주세요!2025.02.17 - [반도체 8대 공정] - [반도체 공정] Etch 공정이란? (1) 에치라는 공정은 어떻게 실현될 수 있었던 것일까요?차근차근 설명해 보겠습니다. 기본적으로, 웨이퍼 위에 아래 이미지와 같은 파란 패턴을 형성한다고 가정해 보겠습니다. 💡 반도체 공정에서는 단일 단계(1-step)만으로 특정 부분에만 선택적으로 가공할 수 없습니다. 따라서 위와 같은 패턴을 형성하기 위해서는 아래와 같은 방법이 사용될 수 있을 것입니다. (1..

[반도체 공정] Etch 공정이란? (1)

안녕하세요!오늘은 반도체 8대 공정 중 하나인 식각 공정에 대해 다뤄보려 합니다.목차1. 개요 및 기본 개념2. 용어 정리1. 에칭 공정 개요 및 기본 개념1.1 에칭(Etching)이란?에칭(Etching)은 반도체 제조 공정에서 특정 패턴을 형성하기 위해 웨이퍼 표면의 일부를 제거하는 과정입니다. 이는 리소그래피를 통해 형성된 마스크 패턴을 기반으로 진행되며, 반도체 소자의 크기와 성능을 결정하는 핵심적인 과정입니다. 에칭 공정이 정확하지 않으면 원하는 패턴이 형성되지 않아 소자의 동작이 불안정해질 수 있습니다. 목적: 원하는 패턴을 형성하여 반도체 소자의 구조를 완성  정의: 웨이퍼 표면에서 특정 패턴을 형성하기 위해 불필요한 부분을 제거하는 과정목적: 원하는 패턴을 형성하여 반도체 소자의 구조를 ..